2019年5月22日 星期三

Intel 7nm EUV極紫外光刻為何不先做CPU而是GPU?


於日前的投資者會議上,Intel宣布了未來三年的CPU、GPU及半導體製程規劃。

除了14nm及10nm製程之外,Intel更首次宣布了7nm製程的進展,不僅會用上EUV極紫外光刻製程,且2021年就能量產了。只不過首款7nm EUV製程產品是GPU而非預期中的CPU,為何如此呢?Intel的解釋是GPU在使用新製程時風險較低,製造較簡單。



Intel 2021年首款7nm製程產品不是CPU處理器,而是GPU顯示卡,正確地說是基於Xe架構、採用EMIB 2D整合封裝和Foveros 3D混合封裝、推向數據中心AI和高效能運算的GPGPU通用計算加速卡。

身為一家CPU為主的公司,Intel為何於新一代製程上首發GPU而非CPU呢?此問題想必大家都很好奇,Intel高級副總裁-Venkata Renduchintala說明選擇原因,理由就是在使用新一代製程時,特別是EUV極紫外光刻製程上,首發GPU是因為風險較低,缺陷問題較容易解決,哪怕犧牲一點效能。

從Intel的表態來看,其是吸取了10nm製程難產的經驗了,7nm EUV是新一代製程,不會冒然使用新製程去生產難度較高的CPU,而是選擇GPU產品先行,控制新製程量產的風險,以便為CPU邁向7nm EUV製程累積經驗。

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